贴合式兆声清洗系统
我们专业提供满足新兴尖端产业需求的定制化解决方案,例如纳米技术、燃料电池、半导体、医疗涂层、喷雾热解等等。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持,保证客户涂层稳定量产;针对特殊器械涂层需求,提供涂层定制研发服务;提供各类涂层代工服务。
贴合式兆声清洗系统 兆声波清洗技术不仅保存了超声波清洗技术的各项优点, 而且还克服了它的一些不足兆声波清洗技术的机理是由化学清洗剂的化学反应并结合高频振效应对硅片进行清洗。至今兆声波清洗方法已成为抛光片清洗中应用最广泛有效的一种方法。
- 清洗难度降低,清洗效率增加
- 可多区域工作,兼容8寸和12寸
- 化学品消耗量减少无化学污染产生
- 基体表面无损伤,控制硅及氧化层的厚度
- 无导电物质脱落风险
特征与参数
典型应用
• CMP化学机械抛光
• 键合前清洗
• 掩膜清洗
• 显影
• Lift-off金属剥离
• 湿法刻蚀
• 镜头清洗
• 显示屏等微电子行业精密清洗
基本参数
• 兆声频率 1MHz
• 功率密度 <2W/cm2
• 外壳材质 PEEK
• 振子材质 石英或蓝宝石
• 冷却气流量 10L/min
• 液体流量 0.5-3.0 L/min
• 适用晶圆 4寸、6寸、8寸、12寸
• 液体温度 <70°C
• 环境温度 10-40°C
我们的服务
驰飞提供创新和定制的解决方案,以满足您的需求。将我们的专业知识与您的专业知识相结合加速您的生产和研发
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