喷涂方形硅片
喷涂方形硅片 – 在方形硅片上涂覆光刻胶 – 驰飞超声波喷涂
超声波喷涂技术可用于光刻胶喷涂，特别适用于在方形硅片上涂覆光刻胶，涂层厚度可为几十纳米。光刻胶喷涂是半导体制造的重要环节，而超声波喷涂技术在这一环节中发挥着关键作用。它可以提高涂层的质量和均匀性，使光刻胶更好地附着在硅片上，从而制造出更高质量的半导体芯片。
超声波喷涂技术是一项高科技，它为半导体制造提供了重要的技术支持。如果你对这一技术感兴趣，请尽快联系我们了解更多信息。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
