晶圆的光刻胶涂覆
晶圆的光刻胶涂覆 – 光刻胶涂布器 – 涂层均匀性 – 驰飞超声波喷涂
在微机电系统（MEMS）和半导体制造领域，针对具有不同形貌的MEMS晶圆及其他基板的光刻胶超声喷涂技术已成为一项变革性的技术。超声喷涂技术为光刻晶圆加工过程中的光刻胶涂覆提供了一种流程简化、成本效益高且高度可重复的解决方案。
在处理具有复杂多样形貌的MEMS晶圆和基板时，传统的涂覆方法往往难以实现均匀的覆盖。然而，超声喷涂工艺在这方面表现出色。它能够进行直接喷涂，且已通过严格测试并被证实是一种可靠且高效的将光刻胶沉积到三维微结构上的方法。通过精确控制诸如液滴大小和速度等喷涂参数，它可确保光刻胶层的均匀分布。这反过来又显著降低了金属过度暴露于蚀刻剂时可能导致的器件失效风险。因此，它不仅提高了高质量器件的成品率，还加快了整个制造过程，使其成为现代微加工中不可或缺的技术。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
