光刻胶超声镀膜系统

光刻胶超声镀膜系统 – 光刻胶喷涂工艺 – 杭州驰飞超声波

最近杭州驰飞推出一种新的光刻胶超声镀膜系统，新的UAM6000光刻胶涂层系统可应用于MEMS晶圆。

UAM6000超声波旋转喷涂设备，可以全方位喷涂各个角落，在难以涂覆的应用中提供了更均匀的侧壁镀膜。超声波喷涂已经用于光致抗蚀剂沉积多年，并且是用于半导体光刻制造的行之有效的方法。

超声波喷涂技术为MEMS晶圆工艺提供了一种经济高效的喷涂方法。 对于MEMS晶圆应用，杭州驰飞开发了一种特殊的超声波喷嘴配置，以提供更具针对性的喷涂区域，从而可以大大减少过量喷涂。