喷雾干燥
喷雾干燥 喷雾干燥 - 超声波喷涂的优点 - [...]
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台式支架涂层系统 台式支架涂层系统 - 支架喷涂机 - [...]
集成电路半导体光刻工艺及光刻机全解析 集成电路半导体光刻工艺及光刻机全解析 - 光刻旋转涂胶机 - [...]
冠脉支架的选择 冠脉支架的选择 - 药物涂层的支架 - [...]
燃料电池电堆关键材料 燃料电池电堆关键材料 - 喷涂膜电极 - [...]
掩膜光刻 掩膜光刻 - 喷涂光刻胶 - [...]
血管腔内介入手术机器人未来的发展方向 血管腔内介入手术机器人未来的发展方向 - 驰飞超声波喷涂 血管腔内介入手术机器人的设计要适应商品化的血管腔内器具,同时,血管腔内器具的再开发也要适应机器人的特性。目前,所有商品化的血管腔内器具都是按人手操作而设计,尤其是支架的释放手柄。随着血管腔内介入手术机器人研发的进步和临床应用的开展,适合机器人释放的手柄也会应运而生,两者的趋近会使操作更为合理。 [...]
工业超声波雾化器 工业超声波雾化器 - 超声波雾化喷涂设备 - [...]
光刻胶涂覆方法 目前在晶片制作的光刻工艺流程中,会使用光刻胶涂覆在晶片的特定区域,并进行烘烤定型,在后续工艺中对这一特定区域进行保护,对没有光刻胶涂覆的区域进行曝光、刻蚀,从而在晶片上形成有效图形窗口或功能图形。 一般光刻胶是用涂胶机滴到晶片上,旋转晶片使光刻胶涂布均匀,这种工艺用在表面平坦的晶片上,基本能满足要求。然而,若是晶片表 面不平整,即晶片上有凸点,涂覆光刻胶之后,晶片上凸点所涂覆的光刻胶则会较其他部位薄,即使经过烘烤定型,在后续的工艺中,也有可能不能良好地保护位于其下方区域的晶片,让其遭到曝光和蚀刻损害,所形成的图形也会造成误差。 使用超声波光刻胶涂覆方法能够解决上述问题,超声波光刻胶涂覆机使用特定的喷头和360可旋转的机械结构,能够均匀涂覆于晶片表面,无论是凸点还是凹糟都会均匀覆盖,且超声喷涂雾化液滴极细再配上超声波光刻胶涂覆机的烘干功能,边涂覆边烘干定型,在后续的工艺中,光刻胶能够更好地保护其下方 [...]
喷涂光刻胶的关键技术 喷涂光刻胶的关键技术在于超声低压喷雾喷嘴,通过高频震荡方式产生微小的光刻胶液滴,光刻胶雾化液滴由加气系统控制加速定向喷于晶圆表面:由于晶圆处于加热状态,微小光刻胶液迅速固化,几乎没有时间因重力、表面张力等流变因素发生流动或堆积。 超声波喷涂光刻胶与旋转式涂胶或光刻胶电镀技术相比具有很多优势。例如,超声波喷涂光刻胶的方式可以在保持光刻胶厚度、均匀性良好的同时显著地节约光刻胶的用量。 实际上,在得到相同膜厚的情况下,超声波喷涂式涂胶工艺和旋转式涂胶工艺相比,前者节约光刻胶达10~15倍。超声波喷涂式涂胶工艺与光刻胶电镀技术相比,前者可头在所有表面( 包括半导体和绝缘体 [...]