玻璃基板上涂覆光刻胶
玻璃基板上涂覆光刻胶 随着微纳制造技术的飞速发展,光刻技术在半导体、光学器件及微机电系统(MEMS)等领域扮演着至关重要的角色。光刻胶作为光刻工艺中的核心材料,其均匀性、精度及与基底的附着力直接影响到最终产品的性能与良率。在此背景下,超声波镀膜设备以其独特的优势,在玻璃基板上涂覆光刻胶方面展现出巨大的应用潜力。 超声波镀膜技术是一种融合了超声波振动与精密涂覆工艺的高新技术。该技术利用超声波在液体中的空化效应、微射流及声流效应,使液体材料(如光刻胶)在高频振动下被细化成微小液滴,并均匀分散于待镀表面。相较于传统涂覆方法,超声波镀膜技术能够实现更高精度的涂层控制,显著提升涂层的均匀性和附着力。 玻璃基板上涂覆光刻胶的挑战 玻璃作为光刻技术中常用的基底材料,具有透光性好、化学稳定性高等优点,但同时也对涂覆工艺提出了更高要求。一方面,光刻胶需要在玻璃表面形成连续、均匀且无缺陷的薄膜,以确保光刻图案的精确转移;另一方面,光刻胶与玻璃之间的附着力需足够强,以防止在后续工艺步骤中发生脱落或剥离。 [...]