芯片系统复杂度正在改变芯片设计生态
芯片系统复杂度对于芯片设计生态的影响是多方位的。随着应用的驱动，芯片系统复杂度上升，整个芯片系统上复杂度较高的子系统数量上升，这也就让芯片上需要的嵌入式处理器数量提升。一方面，应用驱动了对于嵌入式处理器需求的提升；另一方面，如果有成本较低、设计较为灵活的嵌入式处理器，也将能进一步赋能这样的复杂度提升。
从这一方面来看，RISC－V可谓是切中了芯片设计复杂度提升的需求，未来可望会越来越多地得到应用，并且从另一个角度越来越多地满足复杂芯片系统对于嵌入式处理器的需求。RISC－V是一种开源处理器指令集，任何人有能够自由使用该指令集，并且在其基础上进一步定制满足自己需求的额外指令集。目前，使用RISC－V作为对于计算性能要求不高的嵌入式处理器／MCU已经成为越来越多芯片的选择，其背后的主要原因就是基于RISC－V处理器的成本和灵活性。在未来，我们预期RISC－V得到进一步广泛的应用，并且从另一方面也进一步赋能芯片系统复杂的提升。
除了嵌入式处理器之外，随着芯片系统复杂度提升，对于芯片系统设计的另一个改变就是如何把这些系统用高效而可靠的方法连接到一起，可以互相通信，互相访问内存等。这就需要越来越多地使用NoC（network－on－chip）。NoC将会越来越多地成为SoC系统上的基础IP，来确保芯片系统设计能更加高效地拓展其复杂度和设计规模。
因此，我们认为从设计IP角度，新的嵌入式处理器（RISC－V）和片上互连（NoC）将会成为重要的新看点，来驱动和赋能芯片系统复杂度进一步提升。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
