兆声喷头
我们专业提供满足新兴尖端产业需求的定制化解决方案，例如纳米技术、燃料电池、半导体、医疗涂层、喷雾热解等等。
喷淋式兆声喷头清洗的原理是主要由于声压梯度、粒子速度及声流的作用，而空化效应是次要的，由高能频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。清洗时不形成超声波清洗那样的气泡，而是利用高频声波能量在清洗液中形成的高速微水流连续冲击晶片表面，使物体表面附着的表面小于0.2μm污染物和细小颗粒被强制除去并进入到清洗液中。
- 可去除小于0.2um的微小颗粒
- 避免了空化现象可能引起的对物件表面的损伤
- 高密度的能量提供高效的清洗效果
- 线性方向的高速流动可以防止杂质重新附着在物件表面
- 全面非金属高防腐材质，适应各种酸碱及有机溶剂
- 第三代半导体技术的兆声发生器，全面实现数字化高频大功率驱动
特征与参数
典型应用
• CMP化学机械抛光
• 键合前清洗
• 掩膜清洗
• 显影
• Lift-off金属剥离
• 湿法刻蚀
• 镜头清洗
• 显示屏等微电子行业精密清洗
基本参数
• 兆声频率 1000kHz
• 最大功率 40W
• 最大功率 1200-4800W
• 外壳材质 PVC
• 外壳材质 PEEK, PCTFE
• 适合晶圆 6寸, 8寸, 12寸
• 液体温度 <70°C
• 环境温度 10-40°C
我们的服务
驰飞提供创新和定制的解决方案，以满足您的需求。将我们的专业知识与您的专业知识相结合加速您的生产和研发
电话：0571-87910406
- 手机：13372540303
微信：13372540303
- QQ： 964840129
中国客户咨询邮件：market2@cheersonic.com
- 海外客户咨询邮件：market3@cheersonic.com
地址：浙江省杭州市富阳区场口镇创业路11-13号
