芯片复杂度的多维度提升
芯片设计随着时间推移正在变得越来越复杂是业界人士的共识，但是究竟“复杂”体现在哪些方面，并且随着复杂度提升，还有哪些没有解决的问题，这就需要深入的考察和研究。芯片设计变得更复杂不仅仅体现在芯片晶体管规模变大上，还体现在SoC复杂度的提升上，而SoC复杂度提升会带来一系列的改变，包括设计方法学的变化，以及设计验证方面的新需求。这些新的变化和新需求将会驱动未来几年芯片设计的变革，今天从芯片复杂度的多维度提升这一点来进行分析。
随着人工智能、智能汽车等新应用的出现，芯片复杂度正在慢慢提升。芯片复杂度的提升可以是一件多维度的事情，一方面，它可以体现在晶体管数量的增大上；另一方面，它也可以体现在芯片中复杂子系统的数量上。
但是晶体管数并非唯一考量。例如，在一些芯片中，片上内存（如缓存）可以占据相当大的门数，但是其整体设计复杂度未必会很高。因此，另一个芯片复杂度的观察角度是芯片子系统的数量。在SoC中，每一个芯片子系统都有其独特的功能，而且当芯片子系统数量更多时，如何让这些子系统能很好地工作在一起就是一件具有挑战性的事情。因此，芯片的子系统数量也是衡量整体芯片复杂度的一个重要指标。然而，芯片子系统的数量并不容易统计，而一个可以和这个数字挂钩的数据就是芯片上使用的处理器数量。通常，当芯片子系统的复杂度超过一定程度时，都会单独配有一个为它服务的嵌入式处理器。因此，统计一个芯片上嵌入式处理器的数量可以从一定程度上体现芯片上复杂系统的数量，从而体现芯片设计复杂度。
从芯片上嵌入式处理器数量的角度，首先我们可以看到今天74%的芯片拥有至少一个嵌入式处理器；而一半以上的芯片项目拥有两个以上的嵌入式处理器，15%的处理器有8个以上的嵌入式处理器。从这个角度来看，今天的芯片设计从系统角度也确实是越来越复杂。
综上所述，我们认为芯片设计的复杂度提升不仅仅体现在晶体管数量上，还体现在系统复杂度上。这些复杂度的提升是由于应用端的驱动（例如人工智能，智能驾驶，下一代智能设备等），在未来随着这些系统的进一步普及，我们预计会进一步推高芯片系统的复杂度，这也会给芯片设计行业带来相应的变化。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。
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杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
