槽式兆声清洗系统

槽式兆声清洗系统

一般兆声清洗适于清除的颗粒大小为0.1~0.3 μm,超声清洗适于清除的颗粒大小在 0.4 μm 以上。兆声清洗的作用更加温和。

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槽式兆声清洗系统

我们专业提供满足新兴尖端产业需求的定制化解决方案,例如纳米技术、燃料电池、半导体、医疗涂层、喷雾热解等等。

在微电子制作中的应用 ,使得化学品和超纯水的用量大量减少 ,晶片在化学液中的停留时间减少 ,传统清洗法和超声清洗系统相比对基体特征的损伤最小。利用兆赫兹波产生的液体流动来实现清洗的过程,具有清除深亚微米颗粒的能力,可满足0.1微米线宽技术对清洗工艺的需求,已经广泛应用于硅基芯片制程中的清洗工艺。

• 1MHz超高频超声波
• 声场均匀,声强可超过6W/cm2
• 不锈钢或石英材质振板
• 独特的换能器贴合技术,稳定性性,寿命更长
• 第二代半导体技术的兆声发生器

特征与参数

典型应用

• CMP化学机械抛光
• 键合前清洗
• 掩膜清洗
• 显影
• Lift-off金属剥离
• 湿法刻蚀
• 镜头清洗
• 显示屏等微电子行业精密清洗

基本参数

• 兆声频率 1MHz, 750kHz
• 最大声强 5.5W/cm2
• 最大功率 1200-4800W
• 外壳材质 PVC
• 振板材质 316L不锈钢、石英
• 适合晶圆 6寸, 8寸, 12寸
• 液体温度 <70°C
• 环境温度 10-40°C

我们的服务

驰飞提供创新和定制的解决方案,以满足您的需求。将我们的专业知识与您的专业知识相结合加速您的生产和研发

机器人解决方案

驰飞的专家团队积累了丰富的技术经验,已经通过提供定制化的机器人解决方案成功帮助多个领域的客户降低成本增加效益。

提供定制服务

驰飞以创新的技术、卓越的解决方案和产品坚持不懈地对客户的发展提供全面支持,定制服务满足各种需求,帮助客户实现持续增长。

研发团队

驰飞研发团队在多个方面对企业的成功做出了突出贡献,如引领科技的研究和发展方向、建立与顶尖大学和企业的合作。

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