槽式兆声清洗系统
我们专业提供满足新兴尖端产业需求的定制化解决方案,例如纳米技术、燃料电池、半导体、医疗涂层、喷雾热解等等。
在微电子制作中的应用 ,使得化学品和超纯水的用量大量减少 ,晶片在化学液中的停留时间减少 ,传统清洗法和超声清洗系统相比对基体特征的损伤最小。利用兆赫兹波产生的液体流动来实现清洗的过程,具有清除深亚微米颗粒的能力,可满足0.1微米线宽技术对清洗工艺的需求,已经广泛应用于硅基芯片制程中的清洗工艺。
• 1MHz超高频超声波
• 声场均匀,声强可超过6W/cm2
• 不锈钢或石英材质振板
• 独特的换能器贴合技术,稳定性性,寿命更长
• 第二代半导体技术的兆声发生器
特征与参数
典型应用
• CMP化学机械抛光
• 键合前清洗
• 掩膜清洗
• 显影
• Lift-off金属剥离
• 湿法刻蚀
• 镜头清洗
• 显示屏等微电子行业精密清洗
基本参数
• 兆声频率 1MHz, 750kHz
• 最大声强 5.5W/cm2
• 最大功率 1200-4800W
• 外壳材质 PVC
• 振板材质 316L不锈钢、石英
• 适合晶圆 6寸, 8寸, 12寸
• 液体温度 <70°C
• 环境温度 10-40°C
我们的服务
驰飞提供创新和定制的解决方案,以满足您的需求。将我们的专业知识与您的专业知识相结合加速您的生产和研发
电话:0571-87910406
- 手机:13372540303
微信:13372540303
- QQ: 964840129
中国客户咨询邮件:market2@cheersonic.com
- 海外客户咨询邮件:market3@cheersonic.com
地址:浙江省杭州市富阳区场口镇创业路11-13号