什么是正型光刻胶
提及光刻胶，想必第一时间大家都会联想到它在航空航天领域的应用。但事实上，光刻胶距离我们的生活并不遥远，手机芯片、电脑显示面板等，这些与我们朝夕相处的电子产品背后，也暗藏着光刻胶的身影。
正是得益于神秘的光刻胶材料，我们才能持续优化芯片处理速度、显示面板的分辨率和色域等参数，拥有更轻薄的手机、运算速率更快的芯片、画质更加精良的屏幕面板！
光刻胶的分类
光刻胶是光刻工艺中所需的核心材料之一。光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种具有光化学敏感性的混合液体，其组成成分包括：光增感剂、光引发剂、成膜树脂、单体、溶剂和其他助剂。根据化学反应的不同原理，光刻胶又可以分为正型光刻胶和负型光刻胶！在显影后被光照射过的光刻胶能被溶解掉的称之为正型光刻胶，反之不会被溶解掉的则称之为负型光刻胶。简单来说，显影后留下的光刻胶与掩膜版上的图形相同的是正胶；若显影形成的图形与掩膜版相反的则是负胶。
正胶的应用范围较为广泛，它的分辨率、对比度和反应速度等性能比较优异。但在比较严苛的工作条件下，负胶拥有极佳的耐热和耐酸碱特性，也被用于封装作业，起到绝缘和保护的作用。
除了正型光刻胶和负型光刻胶，我还要给你介绍一种面板正型光刻胶。这是一种光分解型光刻胶，其原理是利用感光剂DNQ（重氮萘酚衍生物）的照光分解特性当作应用。
DNQ成分中含有重氮双键，重氮双键在感光后会释放氮气，留下两个活性正电子进而发生沃夫重排，形成烯酮结构，不稳定的烯酮在水溶液中会迅速变为茚羧酸。茚羧酸与酚醛树脂均为酸性从而会溶解在碱性的显影液中；而没有被光照射的DNQ则会与酚醛树脂形成偶氮耦合反应，进而能耐受住酸。
超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。
超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。
关于驰飞
驰飞的解决方案是环保、高效和高度可靠的，可大幅减少过量喷涂，节省原材料，并提高均一性、转移效率、均匀性和减少排放。为企业提供围绕功能涂层的全套解决方案及长期技术支持，保证客户涂层稳定量产；针对特殊器械涂层需求，提供涂层定制研发服务；提供各类涂层代工服务。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
